· 常规使用温度:≤2600℃,最高设计温度:2650℃,炉内温场不均匀性≤3°
· 该产品是公司专为大专院校、研究部门专供试验而设计的炉体;具备与大型真空无压烧结炉一样的工艺条件和操作方式。完全可以与我公司生产的其他大型真空无压烧结炉配套使用。采用恒温场设计,具有脱粘、烧结一体的功能,发热体采用石墨管型结构,易于装配和维护,且使用寿命长,是较理想的碳化硅超高温真空试验烧结设备。